STEREOLITHOGRAPHIC MATERIAL PROVIDING APPARATUS

In einem Stereolithographiegerät ist eine Materialbereitstellungsvorrichtung für zu härtendes Druckmaterial (16), insbesondere ein Fotopolymer vorgesehen. Die Materialbereitstellungsvorrichtung (10) nimmt eine Materialkartusche (12) auf, die ihrerseits das Druckmaterial (16) aufnimmt und allseitig u...

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Main Authors Ebert, Joerg, Pokorny, Walter, LORÜNSER, Johannes
Format Patent
LanguageEnglish
French
German
Published 17.08.2022
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Summary:In einem Stereolithographiegerät ist eine Materialbereitstellungsvorrichtung für zu härtendes Druckmaterial (16), insbesondere ein Fotopolymer vorgesehen. Die Materialbereitstellungsvorrichtung (10) nimmt eine Materialkartusche (12) auf, die ihrerseits das Druckmaterial (16) aufnimmt und allseitig umgibt. Die Materialkartusche (12) ist mit einer Auslass-Ventileinheit (20) flüssigkeitsdicht verbindbar, über welche das Druckmaterial (16) abgebbar ist und welche mindestens teilweise in der Materialbereitstellungsvorrichtung (10) aufgenommen ist und sich mindestens teilweise an dieser oder in dieser abstützt oder gegen diese abdichtet. Die Auslass-Ventileinheit (20) weist ein Ventil (100) auf, das in Abhängigkeit von der Relativposition, insbesondere der Schwenkposition, von Materialbereitstellungsvorrichtung (10) und Stereolithographiegerät, öffnet und schließt. In a stereolithography apparatus a material provision device for print material (16) to be cured, in particular a photopolymer, is provided. The material provision device (10) receives a material cartridge (12) which in turn receives the print material (16) and surrounds it on all sides. The material cartridge (12) may be connected to an outlet valve unit (20) in a liquid-proof manner via which the print material (16) may be output and which is received at least partially in the material provision device (10) and which is supported at least partially thereon or therein or sealed against it. The outlet valve unit (20) comprises a valve (100) which is opened and closed depending on the relative position, in particular the swiveling position, of material provision device (10) and stereolithography apparatus.
Bibliography:Application Number: EP20220165213