Arc detection system, plasma power supply and arc detection method
The responding method involves monitoring an electrical parameter (KG) e.g. voltage, current of plasma process to determine whether an arc discharge exists. The monitored parameter is rechecked after a predetermined time period when arc discharge exists. A first arc suppression countermeasure is exe...
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Format | Patent |
Language | English French German |
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04.06.2008
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Summary: | The responding method involves monitoring an electrical parameter (KG) e.g. voltage, current of plasma process to determine whether an arc discharge exists. The monitored parameter is rechecked after a predetermined time period when arc discharge exists. A first arc suppression countermeasure is executed upon determining that arc discharge is no longer present when the monitored parameter is rechecked. The first arc suppression countermeasure includes interrupting and/or reversing polarity of supplied power. Independent claims are included for the following: (1) a plasma process arc discharge detection device; and (2) a plasma process power supply.
Beschrieben wird ein Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen in einem Plasmaprozess, bei dem zum Erkennen auftretender Bogenentladungen eine Kenngröße (KG) des Plasmaprozesses überwacht wird, und bei dem nach Erkennen einer Bogenentladung während einer ersten Zeit (t1) abgewartet und anschließend die Kenngröße erneut überprüft wird. Das Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass in dem Fall, dass nach Ablauf der ersten Zeit (t1) keine Bogenentladung erkannt wird, eine erste Gegenmaßnahme zum Unterdrücken von Bogenentladungen durchgeführt wird. |
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Bibliography: | Application Number: EP20060024603 |