Process for depositing a thin film and product obtained
Protecting a substrate against oxidation, where the substrate has a surface comprising an organic material, comprises creating a nonthermal plasma next to the substrate and injecting a precursor of a chemical element into the plasma to form a thin coating on the surface. The process is operated at a...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
07.05.2008
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Summary: | Protecting a substrate against oxidation, where the substrate has a surface comprising an organic material, comprises creating a nonthermal plasma next to the substrate and injecting a precursor of a chemical element into the plasma to form a thin coating on the surface. The process is operated at atmospheric pressure without heating the whole substrate. Independent claims are also included for: (1) material produced as above; (2) architectural element, e.g. window, shutter, wall or gate, comprising the material; (3) use of the material as a self-cleaning, soil-resisting or easy-clean material.
L'invention a pour objet un procédé d'obtention d'un matériau comprenant un substrat dont au moins une partie de la surface d'au moins une de ses faces est à base de composés organiques, ledit procédé étant mis en oeuvre à pression atmosphérique et sans chauffage de la totalité dudit substrat, ledit procédé comprenant en outre les étapes suivantes :
- on crée à proximité immédiate dudit substrat une zone contenant des espèces actives d'un plasma non thermique,
- on injecte dans ladite zone au moins un précurseur d'un élément chimique de manière à déposer sur au moins une face dudit substrat dont au moins une partie de la surface est à base de composés organiques une première couche mince susceptible de protéger ledit substrat contre des réactions d'oxydation, notamment radicalaire. L'invention a également pour objet le matériau susceptible d'être obtenu selon ce procédé. |
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Bibliography: | Application Number: EP20070119721 |