Light-sensitive composition and registration material prepared therefrom
Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das als wesentlichen Bestandteil ein 1,2-Chinondiazid enthält, das ein Polymeres ist mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I in der R ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid- oder eine Alkylgruppe, R1,R2 und R3 gleich...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
22.03.1989
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Summary: | Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das als wesentlichen Bestandteil ein 1,2-Chinondiazid enthält, das ein Polymeres ist mit wiederkehrenden Einheiten der allgemeinen Formel I in der R ein Wasserstoff- oder Halogenatom, eine Cyanid- oder eine Alkylgruppe, R1,R2 und R3 gleich oder verschieden sind und Wasserstoff- oder Halogenatome, gegebenenfalls substituierte Alkyl- oder Alkoxygruppen A die zur Vervollständigung eines ein- oder zweikernigen carbo- oder heterocyclischen aromatischen Ringsystems erforderlichen Atome, D einen eine 1,2-Chinondiazidgruppierung enthaltenden Rest und n + m 2 oder 3 bedeuten. Die Erfindung betrifft auch ein hiermit hergestelltes Kopiermaterial. Mit dem Material werden Flachdruckplatten mit großer Druckauflage erzielt.
The radiation-sensitive composition contains, as essential constituent, a 1,2-quinone diazide which is a polymer with repeating units of the general formula I in which R is a hydrogen or halogen atom, or a cyanide or an alkyl group, R1, R2, and R3 are identical or different and are hydrogen or halogen atoms, or optionally substituted alkyl or alkoxy groups, A are the atoms required to complete a mono- or binuclear carbocyclic or heterocyclic aromatic ring system, D is a radical containing a 1,2-quinone diazide grouping, and n + m is 2 or 3. A copying material can also be prepared from this composition. The material provides lithographic plates with a large print run. |
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Bibliography: | Application Number: EP19880114835 |