Vacuum chamber for drying, melting, surface treatment, PVD and CVD coating, etching and other plasma processes comprises functional units flange-connected to frame structure of interlocked profiles

• Main Authors: GESCHE, ROLAND, WETTE, FRANK, TOBIES, HARALD, KOVACS, REINHOLD, KESLER, LUTZ
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 21.06.2000
• Edition: 7
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Vacuum chamber comprises a frame structure of interlocked profiles onto which various functional units are flange-connected. Vakuumkammern werden für die verschiedensten im Unterdruckbereich ablaufenden verfahrenstechnischen Prozesse benötigt. Hierzu gehören Trocknung, Schmelzen, Oberflächenbehandlung, PVD- und CVD-Beschichtungsverfahren, Ätzen und diverse andere Plasmaprozesse in vielen Bereichen des Maschinenbaus, der Chemie und der Elektrotechnik und Mikroelektronik. DOLLAR A Erfindungsgemäß besteht eine Vakuumkammer aus einer aus Profilen formschlüssig gefertigten Rahmenstruktur, an die auf planaren Platten basierende Funktionsmodule angeflanscht werden. Dies erlaubt eine hohe Modularität und Flexibilität bei kurzen Fertigungszeiten und geringen Kosten.