Dielektrische elektromagnetische Struktur und Verfahren zur Herstellung dieser Struktur

Ein Verfahren zur Herstellung einer dielektrischen, Dk, elektromagnetischen, EM, Struktur, beinhaltet: Bereitstellen eines ersten Formteils, das im Wesentlichen identische Ausnehmungen einer ersten Vielzahl von Ausnehmungen umfasst, die in einem Array angeordnet sind; Füllen der ersten Vielzahl von...

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Main Authors George, Roshin Rose, Duperre, Jared, Taraschi, Gianni, Pance, Kristi, Blasius, William, Sprentall, Karl E, Baars, Dirk, Pandey, Shailesh, O'Connor, Stephen, Polidore, Trevor, Williams, Shawn P, Horn III, Allen F, Brown, Christopher
Format Patent
LanguageGerman
Published 07.10.2021
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Summary:Ein Verfahren zur Herstellung einer dielektrischen, Dk, elektromagnetischen, EM, Struktur, beinhaltet: Bereitstellen eines ersten Formteils, das im Wesentlichen identische Ausnehmungen einer ersten Vielzahl von Ausnehmungen umfasst, die in einem Array angeordnet sind; Füllen der ersten Vielzahl von Ausnehmungen mit einer aushärtbaren ersten Dk-Zusammensetzung, die eine erste durchschnittliche Dielektrizitätskonstante aufweist, die größer ist als die von Luft nach vollständiger Aushärtung; Platzieren eines Substrats auf und über mehrere der ersten Vielzahl von Ausnehmungen, die mit der ersten Dk-Zusammensetzung gefüllt sind, und zumindest teilweises Aushärten der aushärtbaren ersten Dk-Zusammensetzung; und Entfernen des Substrats mit der zumindest teilweise gehärteten ersten Dk-Zusammensetzung aus dem ersten Formabschnitt, was zu einer Anordnung führt, die das Substrat und eine Vielzahl von Dk-Formen aufweist, die die zumindest teilweise gehärtete erste Dk-Zusammensetzung enthalten, wobei jede der Vielzahl von Dk-Formen eine dreidimensionale, 3D, Form aufweist, die durch entsprechende der ersten Vielzahl von Vertiefungen definiert ist. A method of making a dielectric, Dk, electromagnetic, EM, structure, includes: providing a first mold portion comprising substantially identical ones of a first plurality of recesses arranged in an array; filling the first plurality of recesses with a curable first Dk composition having a first average dielectric constant greater than that of air after full cure; placing a substrate on top of and across multiple ones of the first plurality of recesses filled with the first Dk composition, and at least partially curing the curable first Dk composition; and, removing the substrate with the at least partially cured first Dk composition from the first mold portion, resulting in an assembly having the substrate and a plurality of Dk forms including the at least partially cured first Dk composition, each of the plurality of Dk forms having a three dimensional, 3D, shape defined by corresponding ones of the first plurality of recesses.
Bibliography:Application Number: DE20191106028T