Verfahren und Vorrichtung zum Analysieren einer fluoreszierenden Schicht oder eines Schichtstapels, dermindestens eine fluoreszierende Schicht enthält

• Main Authors: Hoppe, Harald, Öttking, Rolf, Rösch, Roland
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 02.10.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

Es wird ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Analysieren eines optoelektronischen Bauelements (20) mit mindestens einem fluoreszierenden Element (22) in mindestens einer Schicht (25) offenbart. Die Elemente (22) können beispielsweise optische Licht emittierende Vorrichtungen sein. Das Verfahren umfasst das Beleuchten eines Bereichs einer Oberfläche (25) des optoelektronischen Bauelements (20) mit einem Satz der Mehrzahl von fluoreszierenden Elementen (22), Sammeln von lateral aufgelöster fluoreszierender Strahlung von dem Satz der fluoreszierenden Elemente (22) und Vergleichen die gesammelte fluoreszierende Strahlung mit simulierten Werten, um eine Analyse zu erstellen. A method and apparatus for analysing an optoelectonic device (20) comprising at least one fluorescing element (22) in at least one layer (25) is disclosed. The elements (22) can be for example optical light emitting devices. The method comprises illuminating an area of a surface (25) of the optoelectronic device (20) with a set of the plurality of fluorescing elements (22), collecting laterally resolved fluorescent radiation from the set of the fluorescing elements (22), and comparing the collected fluorescent radiation with simulated values to produce an analysis.