Positiv arbeitende lichtempfindliche Siloxanzusammensetzung, daraus gebildeter gehärteter Film und Element mit diesem

• Main Authors: Fuke, Takashi, Tashiro, Yuji, Nonaka, Toshiaki, Sekito, Takashi, Yokoyama, Daishi
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 12.01.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Positiv arbeitende lichtempfindliche Siloxanzusammensetzung, umfassend (I) zwei oder mehr Arten von Polysiloxanen mit voneinander verschiedenen Auflösungsraten in wässriger Tetramethylammoniumhydroxidlösung, (II) ein Diazonaphthochinonderivat und (III) Lösungsmittel, wobei es sich bei dem Polysiloxan (I) um eine Mischung voneinem Polysiloxan (la), das durch Hydrolyse und Kondensation einer Silanverbindung der Formel (1):RSi(OR1)3und einer Silanverbindung der Formel (2):Si(OR1)4worin R für eine lineare, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, in der eine beliebige Methylengruppe durch ein Sauerstoffatom ersetzt sein kann, oder eine Arylgruppe mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen, in der ein beliebiges Wasserstoffatom durch ein Fluoratom ersetzt sein kann, steht und R1für eine Alkylgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoffatomen steht,in Gegenwart eines basischen Katalysators erhalten wird, wobei ein vorgebackener Film davon in 5%iger wässriger Tetramethylammoniumhydroxidlösung löslich ist und eine Auflösungsrate von 1 000 Å/Sekunde oder weniger in 5%iger wässriger TMAH-Lösung aufweist, undeinem Polysiloxan (Ib), das durch Hydrolyse und Kondensation mindestens der Silanverbindung der Formel (1) in Gegenwart eines sauren oder basischen Katalysators erhalten wird und wobei ein vorgebackener Film davon eine Auflösungsrate von 100 Å/Sekunde oder mehr in 2,38%iger wässriger Tetramethylammoniumhydroxidlösung aufweist, handelt. A positive photosensitive siloxane composition containing: a polysiloxane (Ia), which is obtained by hydrolyzing and condensing the silane compound represented by RSi(OR1)3 in general formula (1) and the silane compound represented by Si(OR1)4 in general formula (2) in the presence of a basic catalyst, and a pre-baked film of which has a dissolution rate of 1,000 /second or less in a 5 wt % TMAH aqueous solution; a polysiloxane (Ib), which is obtained by hydrolyzing and condensing at least the silane compound represented by general formula (1) in the presence of an acid or basic catalyst, and a pre-baked film of which has a dissolution rate of 100 /second or more in a 2.38 wt % TMAH aqueous solution; and a diazonaphthoquinone derivative and solvent. (In the formula: R represents a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, in which any methylene may be replaced by oxygen, or represents an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, in which any hydrogen may be replaced by fluorine; and R1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)