Cleaning system for projection lens for formation of semiconductor and integrated circuit structures on baseplate has supply of gas fed to lens and has gas analysis equipment

• Main Authors: SCHMIDT, SEBASTIAN, HRASCHAN, GUENTHER, SCHEDEL, THORSTEN
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 27.05.2004
• Edition: 7
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The projector (41) has a lamp (14) producing light with a wavelength of 193 nanometers. The light passes through a projection lens (10) to a substrate coated with photosensitive lacquer (100). Gas may be passed through a line (30) via a control valve (50) to a housing (12) containing the lens. Gas leaves the lens housing through a line (40) with a carbon filter and passes through the control valve to an outlet (42). Gas supplied to the lens and gas leaving the lens is passed via lines (69,66) to a gas analysis module (43) with a detection chamber (68) and a mass spectrometer (60). Mittels eines Gerätes (60) zur Bestimmung von Anteilen einer Substanz in einem Gas oder Gasgemisch werden Messungen an dem Gas oder Gasgemisch zum Spülen einer Linse (10) in einem Projektionsapparat (41) für die Projektion von Strukturen auf ein Substrat (100) durchgeführt. Dabei werden die Resultate einer ersten Messung an dem der Linse (10) zugeführten Gas mit den Resultaten einer Messung des von der Linse (10) abgeführten Gases miteinander verglichen. Handelt es sich insbesondere um eine kontaminierende Substanz, die zu einer Abscheidung auf der Linse (10) unter dem Einfluß hochenergetischer Strahlung durch eine Beleuchtungsquelle (14) führt, so kann aus der Differenz auf nachteilhaft zu der Abscheidung führende photochemische Reaktionen an der Oberfläche der Linse (10) geschlossen werden. Ein Signal wird infolge des Vergleiches generiert, mit dem vorbeugende Maßnahmen gegen eine Degradation der Linse (10) getroffen werden können. Als Meßgeräte (60) können Massenspektrometer, elektrische oder optische Sensoren sowie weitere bekannte Verfahren zur Substanzanalyse eingesetzt werden.