Process for calibrating the temperature measuring system of a high temperature reactor comprises preparing a calibrating plate with a doping material, determining the thickness of the layer, thermally treating, and further processing

• Main Authors: SIEBERT, WOLFGANG, ZIEGLER, JOERG, STORCK, PETER
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 30.10.2003
• Edition: 7
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Process for calibrating the temperature measuring system of a high temperature reactor comprises preparing a calibrating plate with a first concentration of doping material having a layer with a second concentration of the doping material, determining the thickness of the layer, thermally treating the calibrating plate in the reactor at a theoretical temperature measured by the temperature measuring system, determining the thickness of the layer again, and determining the actual temperature in the reactor during heat treatment from the difference of the thicknesses of the layer between the change of thickness of the layer and the temperature during heat treatment. Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Kalibrierung des Temperaturmesssystems eines Hochtemperaturreaktors, umfassend DOLLAR A a) die Bereitstellung einer Kalibrierscheibe mit einer ersten Konzentration eines Dotierstoffs, die eine Schicht mit einer zweiten Konzentration des Dotierstoffs aufweist, wobei die zweite Konzentration von der ersten Konzentration verschieden ist, DOLLAR A b) die Bestimmung der Dicke der Schicht, DOLLAR A c) eine thermische Behandlung der Kalibrierscheibe im Hochtemperaturreaktor bei einer vorgegebenen, vom Temperaturmesssystem gemessenen Soll-Temperatur, DOLLAR A d) die erneute Bestimmung der Dicke der Schicht und DOLLAR A e) die Bestimmung der tatsächlichen Ist-Temperatur im Hochtemperaturreaktor während der thermischen Behandlung in Schritt c) aus der Differenz der in den Schritten d) und b) bestimmten Dicken der Schicht mit Hilfe eines bekannten funktionalen Zusammenhangs zwischen der Änderung der Dicke der Schicht und der Temperatur während der thermischen Behandlung.