Galvanisierungsvorrichtung

Die vorliegende Erfindung offenbart eine Galvanisierungsvorrichtung. Die Galvanisierungsvorrichtung umfasst: ein Galvanikbecken (13) zur Aufnahme einer Galvanisierungslösung; eine erste Anodenplatte (110), die in die Galvanisierungslösung eingetaucht ist; und einen ersten Pulsgleichrichter (11), der...

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Main Authors Zhu, Xunwei, Peng, Dongqing, Huang, Zhongxi, Nie, Jianhua, Zhang, Daiqiong, Deng, Zhongpu, Zhou, Chunyan, Yuan, Kefang
Format Patent
LanguageGerman
Published 18.07.2024
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Summary:Die vorliegende Erfindung offenbart eine Galvanisierungsvorrichtung. Die Galvanisierungsvorrichtung umfasst: ein Galvanikbecken (13) zur Aufnahme einer Galvanisierungslösung; eine erste Anodenplatte (110), die in die Galvanisierungslösung eingetaucht ist; und einen ersten Pulsgleichrichter (11), der eine positive Elektrode aufweist, die elektrisch mit der ersten Anodenplatte (110) verbunden ist, und eine negative Elektrode, die elektrisch mit einem zu galvanisierenden Werkstück (130) verbunden ist, das in die Galvanisierungslösung eingetaucht ist. Der erste Pulsgleichrichter (11) ist so eingestellt, dass er während des Galvanisierens des Werkstücks (130) periodisch einen ersten Satz von Pulsströmen (P1) ausgibt, wobei der erste Satz von Pulsströmen (P1) verschiedene unterschiedliche Pulsströme (P11-P13) umfasst; die maximale Stromdichte und der Tastgrad der verschiedenen unterschiedlichen Pulsströme (P11-P13) in dem ersten Satz von Pulsströmen (P1) sind voneinander verschieden. In der vorliegenden Erfindung kann die Galvanisierungsvorrichtung nanokristalline Beschichtungen auf der Oberfläche des Werkstücks in einer effizienten, steuerbaren und stabilen Art und Weise abscheiden, wodurch eine stabile und nachhaltige Massenproduktion von nanokristallinen galvanischen Beschichtungen erreicht wird. An electroplating device includes an electroplating pool containing an electroplating solution, a first anode plate immersed in the electroplating solution, and a first pulse rectifier having a positive electrode electrically connected to the first anode plate and a negative electrode electrically connected to a workpiece to be electroplated that is immersed in the electroplating solution. The first pulse rectifier periodically outputs a first set of pulse currents during electroplating of the workpiece. The first set of pulse currents includes a plurality of first different pulse currents that differ in a peak current density and a duty cycle.
Bibliography:Application Number: DE202410101020