Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld

• Main Authors: Beder, Susanne, Menke, Christoph, Brehm, Michael, Peschka, Martin, Pretorius, Marco
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 10.10.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES; MATERIALS THEREFOR; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY; NANOTECHNOLOGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; PROCESSES OR APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTUREOR TREATMENT OF MICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS; SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; TRANSPORTING; X-RAY TECHNIQUE

Eine abbildende EUV-Optik (10) dient zur Abbildung eines Objektfeldes (5) in ein Bildfeld (11). Die abbildende Optik (10) hat eine Mehrzahl von Spiegeln (M1 bis M5) zur Führung von EUV-Abbildungslicht (16) mit einer Wellenlänge, die kleiner ist als 30 nm, längs eines Abbildungsstrahlengangs. Die abbildende EUV-Optik (10) hat eine bildseitige numerische Apertur, die mindestens 0,3 beträgt. Eine Gesamttransmission der Mehrzahl der Spiegel (M1 bis M5) ist größer als 10 %. Eine Gesamtspiegelfläche, die die Summe aller Nutz-Spiegelflächen der Mehrzahl der Spiegel (M1 bis M5) darstellt, ist kleiner als 1,5 m2. Es resultiert eine abbildende EUV-Optik, deren Nutzbarkeit für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage verbessert ist. An imaging EUV optical unit (10) serves for imaging an object field (5) into an image field (11). The imaging optical unit (10) has a plurality of mirrors (M1 to M5) for guiding EUV imaging light (16) at a wavelength of shorter than 30 nm along an imaging beam path. The imaging EUV optical unit (10) has an image-side numerical aperture of at least 0.3. An overall transmission of the plurality of mirrors (M1 to M5) is greater than 10%. An overall mirror surface, which represents the sum of all used mirror surfaces of the plurality of mirrors (M1 to M5), is less than 1.5 m2. This yields an imaging EUV optical unit with improved usability for an EUV projection exposure apparatus.