Beleuchtungssystem, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren

• Main Authors: Schwab, Markus, Beder, Susanne, Bieling, Stig
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 26.01.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Ein Beleuchtungssystem (ILL) für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage zur Beleuchtung eines in Bereich einer Objektebene (OS) eines nachgeschalteten Projektionsobjektivs (PO) angeordneten Musters mit aus Licht einer primären Lichtquelle (LS) erzeugtem Beleuchtungslicht ist als Doppelfeld-Beleuchtungssystem dafür ausgebildet, ein einziges von der primären Lichtquelle (LS) stammendes Lichtbündel zu empfangen und daraus zwei Beleuchtungsstrahlbündel (BS1, BS2) zu erzeugen, wobei ein erstes Beleuchtungsstrahlbündel (BS1) entlang eines ersten Beleuchtungsstrahlengangs zu einem außerhalb der optischen Achse des Projektionsobjektivs in der Austrittsebene (ES) des Beleuchtungssystems angeordneten ersten Beleuchtungsfeld (ILF1) und zeitgleich ein zweites Beleuchtungsstrahlbündel (BS2) entlang eines zweiten Beleuchtungsstrahlengangs zu einem dem ersten Beleuchtungsfeld (ILF1) in Bezug auf die optische Achse (AX) gegenüberliegenden und außerhalb der optischen Achse in der Austrittsebene angeordneten zweiten Beleuchtungsfeld (ILF) führbar ist. Das Beleuchtungssystem umfasst eine refraktive Pupillenformungseinheit (PFU) zum Empfang von Licht der primären Lichtquelle (LS) und zur Erzeugung einer zweidimensionalen Intensitätsverteilung in einer Pupillenformungsfläche (PUP) des Beleuchtungssystems, und ein der Pupillenformungseinheit optisch nachgeschaltetes refraktives Feldformungssystem (FFS) mit einer Homogenisierungseinheit (HOM) zur Homogenisierung des von der Pupillenformungseinheit empfangenen Lichts und zum Teilen des Beleuchtungslichts in das erste Beleuchtungsstrahlbündel (SB1) und das zweite Beleuchtungsstrahlbündel (SB2). An illumination system (ILL) for a microlithography projection illumination facility for illuminating a sample arranged in a region of an object plane (OS) of a downstream projection lens (PO) with illumination light generated from light from a primary light source (LS) is designed as a double-field illumination system for receiving a single light beam coming from the primary light source (LS) and generating therefrom two illumination beams (BS1, BS2), wherein a first illumination beam (BS1) can be guided along a first illumination beam path to a first illumination field (ILF1) arranged outside the optical axis of the projection lens in the exit plane (ES) of the illumination system and at the same time a second illumination beam (BS2) can be guided along a second illumination beam path to a second illumination field (ILF) opposite the first illumination field (ILF1) in relation to the optical axis (AX) and arranged outside the optical axis in the exit plane. The illumination system comprises a refractive pupil-forming unit (PFU) for receiving light from the primary light source (LS) and for generating a two-dimensional intensity distribution in a pupil-forming surface (PUP) of the illumination system, and a refractive field-forming system (FFS) optically downstream of the pupil-forming unit, said field-forming system having a homogenisation unit (HOM) for homogenising the light received from the pupil-forming unit and for splitting the illumination light into the first illumination beam (SB1) and the second illumination beam (SB2).