Verfahren zur Herstellung einer Struktur auf einem Substrat sowie Vorrichtung zur Strukturherstellung mit einem derartigen Verfahren

• Main Authors: Meisch, Tobias, Schiele, Alexander, Kohler, Daria
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 13.10.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Bei der Herstellung einer Struktur auf einem Substrat (35) wird zunächst das Substrat (35) mit einem Fotolack (37) beschichtet. Ein Belichtungs-Lackabschnitt (38) des Fotolacks (37) wird mit einer Schreibstrahlquelle (39) belichtet. Eine Strahlenrichtung eines Belichtungsstrahls (40) der Schreibstrahlquelle(39) nimmt einen Beleuchtungs-Strahlwinkel (α) zu einer Oberfläche eines Substratabschnitts (41), der unterhalb des Beleuchtungs-Lackabschnitts (38) liegt. Der Beleuchtungs-Strahlwinkel (α) ist kleiner als 85°. Eine erzeugte Fotolack-Struktur in Fotolack (37) hat einen Fotolack-Kantenwinkel, den ein substratseitiger Endabschnitt der Fotolack-Struktur mit der Oberfläche des Substratabschnitts (41) einnimmt, im Bereich zwischen 5° und 175°. Nach dem Belichten wird das Substrat (35) zur Übertragung einer durch das Belichten im Fotolack (37) erzeugten Struktur auf das Substrat (35) geätzt. Es resultiert ein Herstellungsverfahren, dessen Einsatzmöglichkeiten zur Erfüllung höherer Genauigkeit- und/oder Standzeitanforderungen oder zur Herstellung bislang nicht oder nur schwer zugänglicher Strukturtypen optimiert ist.