Rohmaske und Fotomaske unter Verwendung derselben

• Main Authors: Choi, Suk Young, Shin, Inkyun, Lee, Hyung-joo, Son, Sung Hoon, Kim, Seong Yoon, Kim, Taewan, Jeong, Min Gyo, Lee, GeonGon
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 09.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Eine Rohmaske nach der vorliegenden Offenbarung umfasst ein transparentes Substrat und einen Lichtabschirmfilm, der auf dem transparenten Substrat angeordnet ist. Der Lichtabschirmfilm umfasst ein Übergangsmetall und umfasst zudem Sauerstoff und/oder Stickstoff. Der Kontaktwinkel des mittels Diiodmethan gemessenen Lichtabschirmfilms beträgt 40° bis 45°. Eine Oberfläche des Lichtabschirmfilms weist einen Rsk-Wert von -1 bis 0 und einen Rku-Wert von 7 oder weniger auf. Eine solche Rohmaske ist geeignet, um für die Oberfläche eines Lichtabschirmfilms unter Verwendung einer Reinigungslösung gereinigt zu werden. Zusätzlich weist die Rohmaske eine stabile Haftkraft mit einem Resistfilm auf, wenn der Resistfilm auf den Lichtabschirmfilm aufgetragen wird. A blank mask including a transparent substrate and a light shielding film disposed on the transparent substrate, wherein the light shielding film includes a transition metal and at least one selected from the group consisting of oxygen and nitrogen, and wherein a surface of the light shielding film has a first contact angle of 40° to 45° measured by using diiodo-methane as a first liquid contacting the surface of the light shielding film, is disclosed.