Verfahren, Steuervorrichtung, Speichermedium und Vakuumanordnung

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (200) zum Betreiben einer Gasseparationsstufe (102), aufweisen: Ermitteln (201), dass ein mit einem Substrattransport durch die Gasseparationsstufe (102) hindurch in Beziehung stehendes Ereignis, welches einen Gasaustausch durch die Gasseparat...

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Main Author Teichert, Bernd
Format Patent
LanguageGerman
Published 05.10.2023
Subjects
CHEMICAL SURFACE TREATMENT
CHEMISTRY
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL
COATING METALLIC MATERIAL
DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL
INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL
METALLURGY
SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION
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Summary:Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren (200) zum Betreiben einer Gasseparationsstufe (102), aufweisen: Ermitteln (201), dass ein mit einem Substrattransport durch die Gasseparationsstufe (102) hindurch in Beziehung stehendes Ereignis, welches einen Gasaustausch durch die Gasseparationsstufe (102) hindurch verändert, bevorsteht; und Ansteuern (203) eines Stellglieds (106), welches einen innerhalb der Gasseparationsstufe (102) zuströmenden Gasfluss beeinflusst, basierend auf einem Resultat des Ermittelns (201).
Bibliography:Application Number: DE202210108173