Verfahren und Vorrichtung zum Abtragen von Material und optische Anordnung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abtragen von Material, umfassend: Bestrahlen einer Oberfläche (25a) einer Beschichtung (25), die zur Reflexion von EUV-Strahlung (16) ausgebildet ist, mit einem gepulsten Laserstrahl (38) zum Abtragen des Materials, wobei der gepulste Laserstrahl (38) zum Abt...
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Format | Patent |
Language | German |
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08.12.2022
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Summary: | Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abtragen von Material, umfassend: Bestrahlen einer Oberfläche (25a) einer Beschichtung (25), die zur Reflexion von EUV-Strahlung (16) ausgebildet ist, mit einem gepulsten Laserstrahl (38) zum Abtragen des Materials, wobei der gepulste Laserstrahl (38) zum Abtragen des Materials scannend über die Oberfläche (25a) der Beschichtung geführt wird. Beim Bestrahlen der Oberfläche (25a) werden wahlweise Bestrahlungsparameter (Φ, λ, τ, N, β, ...) zum Abtragen von Material in Form von Verschmutzungen von der Oberfläche der Beschichtung, insbesondere ohne ein Abtragen des Materials der Beschichtung, oder Bestrahlungsparameter (Φ, λ, τ, N, β, ...) zum Abtragen des Materials der Beschichtung eingestellt. Die Erfindung betrifft auch eine Vorrichtung (33) zum Abtragen von Material sowie eine optische Anordnung, die mindestens eine solche Vorrichtung (33) umfasst. |
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Bibliography: | Application Number: DE202110214980 |