TEILCHENSTRAHLVORRICHTUNG UND ZUSAMMENGESETZTER-STRAHLVORRICHTUNG

Es wird eine Teilchenstrahlvorrichtung bereitgestellt, die in der Lage ist, geeignetes Schalten selektiv zwischen geladenem Teilchenstrahl und neutralem Teilchenstrahl durchzuführen. Eine Teilchenstrahlsäule (19) umfasst eine lonenquelle (41), eine Kondensorlinse (52), ein Ladungsaustauschgitter (55...

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Main Authors Nagahara, Koji, Madokoro, Yuichi
Format Patent
LanguageGerman
Published 23.09.2021
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Summary:Es wird eine Teilchenstrahlvorrichtung bereitgestellt, die in der Lage ist, geeignetes Schalten selektiv zwischen geladenem Teilchenstrahl und neutralem Teilchenstrahl durchzuführen. Eine Teilchenstrahlsäule (19) umfasst eine lonenquelle (41), eine Kondensorlinse (52), ein Ladungsaustauschgitter (55) und eine Objektivlinse (56). Die lonenquelle (41) erzeugt Ionen. Die Kondensorlinse (52) verändert die Fokussierung des lonenstrahls, so dass zwischen lonenstrahl und neutralem Strahl als Teilchenstrahl, mit dem eine Probe (S) bestrahlt wird, geschaltet wird. Das Ladungsaustauschgitter (55) wandelt zumindest einen Teil des lonenstrahls durch Neutralisierung in einen neutralen Teilchenstrahl um. Die Objektivlinse (56) ist stromabwärts von dem Ladungsaustauschgitter (55) angeordnet. Die Objektivlinse (56) reduziert den lonenstrahl auf die Probe (S), wenn die Probe (S) mit dem neutralen Teilchenstrahl als Teilchenstrahl bestrahlt wird. Provided is a particle beam apparatus capable of performing appropriate switching selectively between charged particle beam and neutral particle beam. A particle beam column (19) includes an ion source (41), a condenser lens (52), a charge exchange grid (55), and an objective lens (56). The ion source (41) generates ions. The condenser lens (52) changes focusing of the ion beam so that switching is performed between ion beam and neutral beam as particle beam with which a sample (S) is irradiated. The charge exchange grid (55) converts at least a part of ion beam into neutral particle beam through neutralization. The objective lens (56) is placed downstream of the charge exchange grid (55). The objective lens (56) reduces the ion beam toward the sample (S) when the sample (S) is irradiated with the neutral particle beam as the particle beam.
Bibliography:Application Number: DE202110202665