System und Verfahren zum Modellieren von durch einfallende Teilchen verursachten Schäden

• Main Authors: Park, Chulwoo, Byeon, Seongjae, Roh, Wonki, Kim, Seunghyun, Kim, Sungjin, Lee, Sangwoon, An, Taeyoon, Jeon, Joohyun, Jung, Hyoeun
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 24.11.2022
• Subjects: CALCULATING; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; PHYSICS

Ein Verfahren zum Modellieren von Schäden an einem Kristall, die durch ein einfallendes Teilchen verursacht werden, enthält: Erhalten von Teilcheninformationen und Kristallinformationen; Schätzen eines Energieverlusts des einfallenden Teilchens basierend auf den Teilcheninformationen und auf den Kristallinformationen; Schätzen eines Volumens einer Leerstelle basierend auf dem Energieverlust; Schätzen einer Leerstellenreaktion basierend auf den Kristallinformationen und dem Volumen der Leerstelle; und Erzeugen von Ausgabedaten basierend auf der Leerstellenreaktion, wobei die Ausgabedaten Quantifizierungsdaten der Schäden enthalten. A method of modeling damages to a crystal caused by an incident particle includes obtaining particle information and crystal information; estimating energy loss of the incident particle based on the particle information and the crystal information; estimating a volume of a vacancy based on the energy loss; estimating a vacancy reaction based on the crystal information and the volume of the vacancy; and generating output data based on the vacancy reaction, the output data including quantification data of the damages.