System und Verfahren zum Modellieren von durch einfallende Teilchen verursachten Schäden
Ein Verfahren zum Modellieren von Schäden an einem Kristall, die durch ein einfallendes Teilchen verursacht werden, enthält: Erhalten von Teilcheninformationen und Kristallinformationen; Schätzen eines Energieverlusts des einfallenden Teilchens basierend auf den Teilcheninformationen und auf den Kri...
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Format | Patent |
Language | German |
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24.11.2022
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Summary: | Ein Verfahren zum Modellieren von Schäden an einem Kristall, die durch ein einfallendes Teilchen verursacht werden, enthält: Erhalten von Teilcheninformationen und Kristallinformationen; Schätzen eines Energieverlusts des einfallenden Teilchens basierend auf den Teilcheninformationen und auf den Kristallinformationen; Schätzen eines Volumens einer Leerstelle basierend auf dem Energieverlust; Schätzen einer Leerstellenreaktion basierend auf den Kristallinformationen und dem Volumen der Leerstelle; und Erzeugen von Ausgabedaten basierend auf der Leerstellenreaktion, wobei die Ausgabedaten Quantifizierungsdaten der Schäden enthalten.
A method of modeling damages to a crystal caused by an incident particle includes obtaining particle information and crystal information; estimating energy loss of the incident particle based on the particle information and the crystal information; estimating a volume of a vacancy based on the energy loss; estimating a vacancy reaction based on the crystal information and the volume of the vacancy; and generating output data based on the vacancy reaction, the output data including quantification data of the damages. |
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Bibliography: | Application Number: DE202110128095 |