Optisches Element, insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung, optische Anordnung und Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements

• Main Author: Shklover, Vitaliy
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 05.05.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Die Erfindung betrifft ein reflektierendes optisches Element (17), insbesondere zur Reflexion von EUV-Strahlung (16), umfassend: ein Substrat (25), sowie eine reflektierende Beschichtung (26), die auf das Substrat (25) aufgebracht ist. Bei einem Aspekt der Erfindung ist das Substrat (25) in seinem Volumen (V) mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Bei einem weiteren Aspekt der Erfindung ist die reflektierende Beschichtung (26) und/oder eine strukturierte Schicht (28), die zwischen dem Substrat (25) und der reflektierenden Beschichtung (26) angeordnet ist, mit mindestens einem Edelmetall (27) dotiert. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, bevorzugt eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie, insbesondere für die EUV-Lithographie, die mindestens ein solches reflektierendes optisches Element (17) aufweist, sowie ein Verfahren zum Herstellen eines solchen reflektierenden optischen Elements (17). A reflective optical element (17), in particular for reflecting EUV radiation (16), includes: a substrate (25), and a reflective coating (26) applied to the substrate (25). In one disclosed aspect, the substrate (25) is doped within its volume (V) with at least one precious metal (27). In a further disclosed aspect, the reflective coating (26) and/or a structured layer (28) that is formed between the substrate (25) and the reflective coating (26) is doped with at least one precious metal (27). Also disclosed are an optical arrangement, preferably a projection exposure apparatus for microlithography, in particular for EUV lithography, which includes at least one such reflective optical element (17), and a method of producing such a reflective optical element (17).