Projektionsbelichtungsanlage mit einer Heizvorrichtung und einem Polarisator

Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie mit einer Heizvorrichtung (25) zum Beheizen optischer Elemente (29) der Projektionsbelichtungsanlage (1) mittels Heizstrahlung (31) und einem Polarisator (37) zur Aufspaltung der Heizstrahlung (31) in mindest...

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Main Authors Hetzler, Jochen, Major, András G
Format Patent
LanguageGerman
Published 07.10.2021
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleiterlithographie mit einer Heizvorrichtung (25) zum Beheizen optischer Elemente (29) der Projektionsbelichtungsanlage (1) mittels Heizstrahlung (31) und einem Polarisator (37) zur Aufspaltung der Heizstrahlung (31) in mindestens zwei unterschiedlich polarisierte Heizstrahlanteile (33,34). Dabei ist mindestens ein Polarisationsmodulator (39) zur Modifikation der Polarisation mindestens eines der unterschiedlich polarisierten Heizstrahlanteile (33,34) vorhanden. The invention relates to a projection exposure apparatus (1) for semiconductor lithography, comprising a heating device (25) for heating optical elements (29) of the projection exposure apparatus (1) by means of heating radiation (31) and comprising a polarizer (37) for splitting the heating radiation (31) into at least two differently polarized heating beam portions (33, 34). Here, at least one polarization modulator (39) is present for modifying the polarization of at least one of the differently polarized heating beam portions (33, 34).
Bibliography:Application Number: DE202010213416