Spiegelanordnung mit Wasserstoff-Barriere und optische Anordnung

• Main Authors: Pollak, Thilo, Noah, Martin, Naser, Jürgen, Hild, Kerstin, Pazidis, Alexandra, Kleinhenz, Dirk
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 04.03.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Die Erfindung betrifft Spiegelanordnung (30), umfassend: ein Substrat (31), das eine Vorderseite (31a) mit einer Spiegelfläche (32a) zur Reflexion von Strahlung sowie eine der Vorderseite (31a) abgewandte Rückseite (31b) aufweist, sowie mindestens einen Aktuator (27) zur Erzeugung von Deformationen der Spiegelfläche (32a). Der mindestens eine Aktuator (27) ist an der Rückseite (31b) des Substrats (31) befestigt und die Spiegelanordnung (30) weist eine Wasserstoff-Barriere (38) auf, die ausgebildet ist, wasserstoffempfindliches Material an der Rückseite (31b) des Substrats (31), insbesondere an dem mindestens einen Aktuator (27), vor dem Angriff durch Wasserstoff aus der Umgebung der Spiegelanordnung (30) zu schützen. Die Erfindung betrifft auch eine optische Anordnung, insbesondere eine EUV-Lithographievorrichtung, mit einer solchen Spiegelanordnung (30). A mirror arrangement (30) includes: a substrate (31), which has a front side (31a) having a mirror face (32a) for reflecting radiation (5), and a rear side (31b) facing away from the front side (31a), as well as at least one actuator (27) arranged to generate deformations of the mirror face (32a). The at least one actuator (27) is secured on the rear side (31b) of the substrate (31), and the mirror arrangement (30) has a hydrogen barrier (38) which is configured to protect a hydrogen-sensitive material (M) on the rear side (31b) of the substrate (31), in particular on the at least one actuator (27), from the attack by hydrogen (37) from the surroundings (36) of the mirror arrangement (30). An associated optical arrangement, in particular an EUV lithography apparatus (1), incorporating such a mirror arrangement (30) is also disclosed.