VERSTEIFUNG EINES OPTISCHEN ELEMENTS

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einem optischen Element (110), wobei das optische Element (110) eine optische Fläche (110.2) und mehrere vonei...

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Main Authors Liebaug, Björn, Strobel, Sebastian
Format Patent
LanguageGerman
Published 14.03.2019
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:Die vorliegende Erfindung betrifft eine Optische Anordnung einer Abbildungseinrichtung für die Mikrolithographie, insbesondere für die Verwendung von Licht im extremen UV-Bereich (EUV), mit einem optischen Element (110), wobei das optische Element (110) eine optische Fläche (110.2) und mehrere voneinander beabstandete Schnittstellen (110.3) zum Halten des optischen Elements in der Abbildungseinrichtung aufweist. Das optische Element (110) definiert eine Haupterstreckungsebene, in der das optische Element (110) eine erste Richtung und eine quer zur ersten Richtung verlaufende zweite Richtung definiert, wobei die erste Richtung eine Hauptverformungsrichtung des optischen Elements (110) ist, entlang der das über die Schnittstellen (110.3) gehaltene optische Element (110) im Betrieb schwerkraftbedingt eine maximale Verformung der optischen Fläche (110.2) erfährt. Wenigstens ein Versteifungselement (111) ist mit dem optischen Element (110) verbunden, wobei das Versteifungselement (111) in der ersten Richtung eine erste Steifigkeit aufweist und in der zweiten Richtung eine zweite Steifigkeit aufweist, wobei die erste Steifigkeit höher ist als die zweite Steifigkeit.
Bibliography:Application Number: DE201910201000