Chemisches Polieren von Solarzellenoberflächen und daraus resultierenden Strukturen

• Main Authors: Montesdeoca Santana, Amada, Harrington, Scott, Balu, Venkatasubramani
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 04.07.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Das chemische Polieren von Solarzellenoberflächen und die daraus resultierende Strukturen werden hier beschrieben. In einem Beispiel beinhaltet ein Verfahren zur Herstellung einer Solarzelle das Texturieren sowohl der ersten als auch der zweiten Seitenflächen eines Siliziumsubstrats mit einem ersten hydroxidbasierten Ätzverfahren. Das Verfahren beinhaltet auch das Reduzieren eines Oberflächenrauhigkeitsfaktors der texturierten zweiten Seitenfläche des Siliziumsubstrats mit einem zweiten hydroxidbasierten Ätzprozess. Das Verfahren beinhaltet auch, nachdem der Oberflächenrauhigkeitsfaktor der texturierten zweiten Seitenfläche des Siliziumsubstrats reduziert wurde, das Bilden von Emitterregionen auf der zweiten Seitenfläche des Siliziumsubstrats. Chemical polishing of solar cell surfaces and the resulting structures are described herein. In an example, a method of fabricating a solar cell includes texturizing both first side and second side surfaces of a silicon substrate with a first hydroxide-based etch process. The method also includes reducing a surface roughness factor of the texturized second side surface of the silicon substrate with a second hydroxide-based etch process. The method also includes, subsequent to reducing the surface roughness factor of the texturized second side surface of the silicon substrate, forming emitter regions on the second side surface of the silicon substrate.