Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Die Erfindung betrifft eine Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem optischen Element, einer Gelenkanordnung zur mechanischen Lagerung des optischen Elements und einer Dämpfungseinrichtung zur Dämpfung wenigstens einer in der Gelenkanordnung auf...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Main Authors Holderer, Hubert, Meinkuss, Philipp, Mahlmann, Martin
Format Patent
LanguageGerman
Published 31.10.2019
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
OPTICS
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
Online AccessGet full text

Cover

More Information
Summary:Die Erfindung betrifft eine Baugruppe, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit einem optischen Element, einer Gelenkanordnung zur mechanischen Lagerung des optischen Elements und einer Dämpfungseinrichtung zur Dämpfung wenigstens einer in der Gelenkanordnung auftretenden Schwingungsanregung durch Erzeugen wenigstens einer Gegenschwingung, welche die Schwingungsanregung wenigstens teilweise kompensiert.
Bibliography:Application Number: DE201810132436