Substratträger, Transportanordnung, Vakuumanordnung und Verfahren

• Main Authors: Lässig, Roland, Hupka, Frank
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 27.09.2018
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substratträger (502, 100a bis 400) Folgendes aufweisen: einen Aufnahmebereich (113); eine Beschichtungsmaske (104), welche eingerichtet ist, mittels einer magnetischen Wechselwirkung an den Aufnahmebereich (113) angelegt zu werden; einen Maskenhalter (106), welcher zum Bewirken der magnetischen Wechselwirkung eingerichtet ist; und eine Klemmstruktur (108) zum Klemmen Substrats in dem Aufnahmebereich (113), so dass dieses beim Anlegen der Beschichtungsmaske (104) vorfixiert ist. The utility model relates to a substrate carrier, conveyer and vacuum apparatus. According to the form of implementation of difference, substrate carrier (502, 100a is to 400) can have as follows: receiving region (113), coating mask (104), its structure does, applyed receiving region (113) with the help of magnetism interact on, the mask keeps the body (106), and it founds to being used for arousing magnetism interact, and clamping structure (108) for with the substrate centre gripping in receiving region (113), make the substrate is fixed by in advance when applying coating mask (104).