Quell-Hohlkörper sowie EUV-Plasma-Lichtquelle mit einem derartigen Quell-Hohlkörper

Ein Quell-Hohlkörper (6) dient zum Vorgeben einer Plasma-Kammer (4) für einen Abschnitt eines Quellplasmas einer EUV-Plasma-Lichtquelle. Der Hohlkörper (6) hat mindestens eine Kammerwand (8), die die Plasma-Kammer (4) begrenzt. Die Kammerwand (8) hat einen Mehrschicht-Aufbau. Es resultiert ein Quell...

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Main Authors Schall, Sebastian, Czap, Almut
Format Patent
LanguageGerman
Published 07.12.2017
Subjects
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
ELECTRICITY
X-RAY TECHNIQUE
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Summary:Ein Quell-Hohlkörper (6) dient zum Vorgeben einer Plasma-Kammer (4) für einen Abschnitt eines Quellplasmas einer EUV-Plasma-Lichtquelle. Der Hohlkörper (6) hat mindestens eine Kammerwand (8), die die Plasma-Kammer (4) begrenzt. Die Kammerwand (8) hat einen Mehrschicht-Aufbau. Es resultiert ein Quell-Hohlkörper, mit dem die praktische Nutzbarkeit einer hiermit ausgerüsteten EUV-Plasma-Lichtquelle verbessert ist. A source hollow body serves for predefining a plasma chamber for a section of a source plasma of an EUV plasma light source. The hollow body has at least one chamber wall that delimits the plasma chamber. The chamber wall has a multilayer construction. This results in a source hollow body that improves the practical usability of an EUV plasma light source equipped with the source hollow body.
Bibliography:Application Number: DE201610213830