Ionenstrahlquelle und Verfahren zur Ionenstrahlbehandlung
Ionenstrahlquelle (1), aufweisend:ein Gehäuse (6);eine Kathode (2) und eine Anode (3) zum Erzeugen von Ionen in einem Emissionsbereich (4);eine Isolationsstruktur (5), welche das Gehäuse (6) und die Anode (3) wärmeisolierend koppelt; undeinen Isolationsbereich (7);wobei die Anode (3) einen Heizberei...
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Format | Patent |
Language | German |
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02.02.2023
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Summary: | Ionenstrahlquelle (1), aufweisend:ein Gehäuse (6);eine Kathode (2) und eine Anode (3) zum Erzeugen von Ionen in einem Emissionsbereich (4);eine Isolationsstruktur (5), welche das Gehäuse (6) und die Anode (3) wärmeisolierend koppelt; undeinen Isolationsbereich (7);wobei die Anode (3) einen Heizbereich (8) und einen Kühlbereich (9) aufweist, undwobei der Isolationsbereich (7) den Heizbereich (8) und den Kühlbereich (9) wärmeisolierend koppelt. |
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Bibliography: | Application Number: DE201610114480 |