Ionenstrahlquelle und Verfahren zur Ionenstrahlbehandlung

Ionenstrahlquelle (1), aufweisend:ein Gehäuse (6);eine Kathode (2) und eine Anode (3) zum Erzeugen von Ionen in einem Emissionsbereich (4);eine Isolationsstruktur (5), welche das Gehäuse (6) und die Anode (3) wärmeisolierend koppelt; undeinen Isolationsbereich (7);wobei die Anode (3) einen Heizberei...

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Main Authors Niederhausen, Thomas, Teichert, Bernd, Hauswald, Ralf
Format Patent
LanguageGerman
Published 02.02.2023
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Summary:Ionenstrahlquelle (1), aufweisend:ein Gehäuse (6);eine Kathode (2) und eine Anode (3) zum Erzeugen von Ionen in einem Emissionsbereich (4);eine Isolationsstruktur (5), welche das Gehäuse (6) und die Anode (3) wärmeisolierend koppelt; undeinen Isolationsbereich (7);wobei die Anode (3) einen Heizbereich (8) und einen Kühlbereich (9) aufweist, undwobei der Isolationsbereich (7) den Heizbereich (8) und den Kühlbereich (9) wärmeisolierend koppelt.
Bibliography:Application Number: DE201610114480