Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator

• Main Authors: LÖRING, ULRICH, STOLZ, MICHAEL, BITTNER, BORIS, WALTER, HOLGER, MARSOLLEK, PASCAL, LIPPERT, JOHANNES, FROMMEYER, ANDREAS, EMER, WOLFGANG, FENGLER, STEPHANUS, TRENKEL-LENZ, MAIKE, EKSTEIN, CLAUDIA, SCHERM, WOLFGANG, KAMENOV, VLADIMIR, LORENZ, AXEL
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 12.11.2015
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Ein Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in einer Objektebene (OS) des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in eine Bildebene des Projektionsobjektivs mittels elektromagnetischer Strahlung einer Arbeitswellenlänge λ < 260 nm hat eine Vielzahl von optischen Elementen mit optischen Flächen, die in einem Projektionsstrahlengang zwischen der Objektebene (OS) und der Bildebene derart angeordnet sind, dass ein in der Objektebene angeordnetes Muster mittels der optischen Elemente in die Bildebene abbildbar ist. Weiterhin ist ein Wellenfront-Manipulationssystem zur dynamischen Beeinflussung der Wellenfront der von der Objektebene zur Bildebene verlaufenden Projektionsstrahlung vorgesehen. Das Wellenfront-Manipulationssystem umfasst einen Manipulator, der ein manipulierbares optisches Element (ME) und eine an dem manipulierbaren optischen Element angreifende Stelleinrichtung zur steuerbaren Beeinflussung mindestens einer optischen Eigenschaft des manipulierbaren optischen Elements aufweist. Das manipulierbare optische Element (ME) ist im Projektionsstrahlengang zwischen der Objektebene (OS) und einer ersten Linse (L1) des Projektionsobjektivs angeordnet. Elemente der Stelleinrichtung greifen außerhalb eines im Projektionsstrahlengang liegenden optischen Nutzbereiches (UA) an dem manipulierbaren optischen Element an. Es ist ein Falschlicht-Schutzsystem mit mindestens einer Schutzeinrichtung zum Schutz von Elementen der Stelleinrichtung gegen Einstrahlung von außerhalb des Projektionsstrahlengangs verlaufendem Falschlicht vorgesehen. Beispielsweise kann das Falschlicht-Schutzsystem eine oder mehrere Blenden (BL1, BL2) aufweisen.