Epitaktische Diamantschicht und Verfahren zu ihrer Herstellung

Die Erfindung betrifft eine epitaktische Diamantschicht (1) sowie ein Verfahren zu deren Herstellung mit den folgenden Schritten: Bereitstellen eines Substrates (4); Abscheiden einer Metallschicht (3) auf zumindest einer Teilfläche des Substrates (4), wobei die Metallschicht (3) zumindest ein Metall...

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Main Authors Widmann, Claudia, Nebel, Christoph
Format Patent
LanguageGerman
Published 21.07.2016
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Summary:Die Erfindung betrifft eine epitaktische Diamantschicht (1) sowie ein Verfahren zu deren Herstellung mit den folgenden Schritten: Bereitstellen eines Substrates (4); Abscheiden einer Metallschicht (3) auf zumindest einer Teilfläche des Substrates (4), wobei die Metallschicht (3) zumindest ein Metall der 4., 5. oder 6. Periode mit einem Schmelzpunkt größer oder gleich 1200 K enthält oder daraus besteht; und Abscheiden einer Diamantschicht (1) auf zumindest einer Teilfläche der Metallschicht (3); wobei zwischen der Metallschicht (3) und der Diamantschicht (1) zumindest eine Zwischenschicht (2) abgeschieden wird, welche eine größere Gitterkonstante als undotierter kristalliner Diamant und eine geringere Härte als undotierter kristalliner Diamant aufweist. An epitaxial diamond layer and a method for the production thereof can be provided that comprises the following steps: providing a substrate; depositing a metal layer on at least a subarea of the substrate, wherein the metal layer contains, or consists of, at least one period 4, 5 or 6 metal having a melting point of greater than or equal to 1200 K; and depositing a diamond layer on at least a subarea of the metal layer; wherein at least one intermediate layer is deposited between the metal layer and the diamond layer and has a higher lattice constant than undoped crystalline diamond and a lower hardness than undoped crystalline diamond.
Bibliography:Application Number: DE201510200692