Wirbelschichtreaktor zur Herstellung von polykristallinem Siliciumgranulat und Verfahren zur Montage eines solchen Wirbelschichtreaktors

• Main Authors: Hertlein, Harald, Weckesser, Dirk, Forstpointner, Gerhard
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 12.05.2016
• Subjects: CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOIDCHEMISTRY; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; COMPOUNDS THEREOF; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; INORGANIC CHEMISTRY; METALLURGY; NON-METALLIC ELEMENTS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; THEIR RELEVANT APPARATUS; TRANSPORTING

Gegenstand der Erfindung sind ein Wirbelschichtreaktor zur Herstellung von polykristallinem Siliciumgranulat sowie ein Verfahren zur Montage eines solchen Wirbelschichtreaktors, umfassend nachfolgende Schritte in der angegebenen Reihenfolge: Bodenplatte (4) aufbauen und mit Gaszufuhrleitungen für Fluidisierungsgas und Reaktionsgas und Produktabzugsleitung (20) verbinden; Bodenplatte (4) mit wenigstens einer Fluidisierungsdüse (6) und mit wenigstens einer Reaktionsgasdüse (5) bestücken; Untere Reaktorrohrdichtung (7) einsetzen; Reaktorrohr (8) mit Heizer (10), Elektroden (11) und Isolationen (12, 13) auf untere Reaktorrohrdichtung (7) aufbauen; Aufstellen des Reaktorschusses (1) über dem Reaktorrohr (8); Obere Reaktorrohreinspannung (14) mit oberer Reaktorrohrdichtung (15) aufbauen; Montage des Reaktorkopfes (16); Montage Seedzufuhreinrichtung (17); Montage Abgasrohrleitung (18). Assembly of a fluidized bed reactor for the preparation of polycrystalline silicon granules by chemical vapor deposition of silicon onto seed particles and removal of polycrystalline silicon granules is facilitated without breakage and with gas tightness by a specific assembly sequence.