Szintillatorplatte und Verfahren zu deren Herstellung

Die Erfindung betrifft eine Szintillatorplatte mit - einem feuchtigkeitsundurchlässigen Substrat (1; 2), - einer Szintillatorschicht (3; 4), die auf das Substrat (1; 2) aufgebracht ist, - einer Zwischenschicht (5; 6), die auf der Szintillatorschicht (3; 4) aufgebracht ist, - einer feuchtigkeitsundur...

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Main Authors MRÓZ, IZABELA MAGDALENA, LOWACK, KLAUS, HAUSEN, MARTINA
Format Patent
LanguageGerman
Published 03.03.2016
Subjects
GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
IRRADIATION DEVICES
MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
MEASURING
NUCLEAR ENGINEERING
NUCLEAR PHYSICS
PHYSICS
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOTOTHERWISE PROVIDED FOR
TESTING
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Summary:Die Erfindung betrifft eine Szintillatorplatte mit - einem feuchtigkeitsundurchlässigen Substrat (1; 2), - einer Szintillatorschicht (3; 4), die auf das Substrat (1; 2) aufgebracht ist, - einer Zwischenschicht (5; 6), die auf der Szintillatorschicht (3; 4) aufgebracht ist, - einer feuchtigkeitsundurchlässigen Schutzschicht (7; 8), die die Zwischenschicht (5; 6) bedeckt. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Herstellungsverfahren für eine Szintillatorplatte, bei dem - in einem ersten Fertigungsschritt auf ein feuchtigkeitsundurchlässiges Substrat (1; 2) eine Szintillatorschicht (3; 4) aufgebracht wird, - in einem zweiten Fertigungsschritt auf die Szintillatorschicht (3; 4) eine Zwischenschicht (5; 6) aufgebracht wird, - in einem dritten Fertigungsschritt auf die Zwischenschicht (5; 6) eine feuchtigkeitsundurchlässige Schutzschicht (7; 8) aufgebracht wird. Eine derartige Szintillatorplatte ist mechanisch stabil und feuchtigkeitsgeschützt und ermöglicht Aufnahmen mit einer verbesserten Bildqualität. Mit dem erfindungsgemäßen Herstellungsverfahren ist eine derartige Szintillatorplatte einfach und zuverlässig herstellbar.
Bibliography:Application Number: DE201410217580