Beleuchtungsoptik, Messsystem zur Charakterisierung mindestens einer Komponente einer Belichtungsanlage sowie Verfahren zur Charakterisierung mindestens einer Komponente einer Belichtungsanlage

• Main Authors: Haidner, Helmut, Hoch, Rainer, Kauffmann, Jochen, Klopfleisch, Peter, Degünther, Markus
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 29.03.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING; TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES ORSTRUCTURES; TESTING STRUCTURES OR APPARATUS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR

Beleuchtungsoptik (3) für eine Führung einer Lichtstrahlung (18) einer Lichtquelle (2) auf eine Objektebene (4), insbesondere zur Führung einer EUV-Strahlung, wobei die Beleuchtungsoptik (3) ausgebildet ist, um eine flächige Lichtstrahlung (18) der Lichtquelle (2) in wenigstens zwei Lichtkanäle (11) zu konzentrieren und die zwei Lichtkanäle (11) auf wenigstens zwei vorgegebene Feldpunkte (10) in einer Objektebene (4) zu lenken, wobei die Beleuchtungsoptik wenigstens zwei Arrays (13, 15) von Licht lenkenden Elementen (14, 16) aufweist und wobei eine Membran (17) mit Öffnungen (19) vorgesehen ist, und wobei die Membran (17) zwischen den Arrays (13, 15) angeordnet ist, wobei die Elemente (14) des ersten Arrays (13) die Lichtkanäle (10) durch die Öffnungen (19) der Membran (17) auf die Elemente (16) des zweiten Arrays (15) lenken, wobei das zweite Array (15) in einer Objektebene (4) angeordnet ist, und wobei die Elemente (16) des zweiten Arrays (15) die Lichtkanäle (10) durch die Öffnungen (19) der Membran (17) in Richtung auf eine Bildebene (6) lenken.