Ladungsteilchenstrahl-Belichtungsgerät und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements

• Main Author: Yamada, Akio
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 05.04.2018
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES

Ladungsteilchenstrahl-Belichtungsgerät (100) zum Belichten von Schnittstrukturen (83) oder Kontaktierungsstrukturen auf einem Substrat (80), das eine Vielzahl von Linienstrukturen (81a) aufweist, die auf einer oberen Oberfläche des Substrats (80) in konstantem Abstand angeordnet sind, wobei die Schnittstrukturen (83) vorgesehen sind, um die Linienstrukturen (81a) zu schneiden, und die Kontaktierungsstrukturen vorgesehen sind, um Durchgangslöcher an den Linienstrukturen (81a) auszubilden, wobei das Ladungsteilchenstrahl-Belichtungsgerät (100) enthält: eine Ladungsteilchenquelle (1) zum Emittieren von Ladungsteilchen, eine Blendenplatte (5) mit einer Vielzahl von Öffnungen (5a), die in einer eindimensionalen Richtung senkrecht zu den Linienstrukturen (81a) angeordnet sind, wobei die Blendenplatte (5) dazu geeignet ist, einen eindimensionalen Matrixstrahl zu bilden, bei dem Ladungsteilchenstrahlen, die aus durch die Öffnungen (5a) gelaufene Ladungsteilchen gebildet werden, in einer Matrix in der eindimensionalen Richtung angeordnet sind, eine Austastplatte (6), die eine Austastanordnung (6a, b, c) zum unabhängigen Ablenken der im eindimensionalen Matrixstrahl enthaltenen Ladungsteilchenstrahlen in Austastmanier enthält, eine Abschlussblendenplatte (7) zum Abblocken der durch die Austastanordnung (6a, b, c) abgelenkten Ladungsteilchenstrahlen, einen Deflektor (8) zum Einstellen einer Bestrahlungsposition des gesamten eindimensionalen Matrixstrahls, eine Bühne (9a), die einen Antriebsmechanismus (9b) enthält, zum Halten und Bewegen des Substrats (80), und ein Steuerteil (101) zum Steuern von Operationen der Austastplatte (6), des Deflektors (8) und der Bühne (9a), wobei das Steuerteil (101) die Bühne (9a) veranlasst, sich kontinuierlich in einer Richtung parallel zu den Linienstrukturen (81a) zu bewegen, und gleichzeitig eine Aufstrahlung des Ladungsteilchenstrahls ausführt, während der eindimensionale Matrixstrahl eine bestimmte Dauer lang an Pixelpositionen, die in regelmäßigen Intervallen auf den Linienstrukturen (81a) festgelegt sind, entsprechend ... The invention relates to a charged particle beam exposure apparatus configured to expose cut patterns or via patterns on a substrate having a plurality of line patterns 81a arranged on an upper surface of the substrate at a constant pitch by irradiating the substrate with a plurality of charged particle beams B1 to Bn while moving a one-dimensional array beam A1 in an X direction parallel to the line patterns 81a, the one-dimensional array beam A1 being a beam in which the charged particle beams B1 to Bn are arranged in an Y direction orthogonal to the line patterns 81a.