VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES BILDGEBERS UND EINER BILDGEBERVORRICHTUNG

• Main Authors: Offenberg, Dirk, Pruegl, Klemens, Braun, Felix, Bodini, Emanuele Bruno, Meinhold, Dirk, Hoeckele, Uwe, Uhlig, Ines, Gruber, Hermann
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 25.07.2019
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

Herstellungsverfahren für einen Tiefen-Bildgeber, umfassend:- Abscheiden von wenigstens einer ersten leitfähigen Schicht (304)- Strukturieren der wenigstens ersten leitfähigen Schicht (304), um für jedes Pixel des Bildgebers wenigstens eine erste Steuerelektrodenstruktur (306A) und eine zweite Steuerelektrodenstruktur (306B) zu erlangen und in einer Transistorregion des Bildgebers wenigstens eine Gate-Elektrodenstruktur (307A, 307B) zu erlangen;- Abscheiden einer zweiten Schicht (308) und wenigstens einer Spacerschicht (310; 402, 406) und Entfernen der zweiten Schicht (308) in der Transistorregion, während die zweite Schicht (308) wenigstens in einer Region, die sich zwischen der ersten und zweiten Steuerelektrodenstruktur erstreckt, verbleibt, wobei die Spacerschicht (310; 402, 406) wenigstens ein Material umfasst, das sich von einem Material der zweiten Schicht (308) unterscheidet; und- nach dem Entfernen der zweiten Schicht (308) in der Transistorregion, Zurückätzen der wenigstens einen Spacerschicht (310; 402, 406) wenigstens in der Transistorregion, um eine Spacerstruktur wenigstens an den Seitenwänden der wenigstens einen Gate-Elektrodenstruktur (307A, 307B) zu bilden, wobei die zweite Schicht (308) wenigstens in der Region verbleibt, die sich nach dem Zurückätzen der wenigstens einen Spacerschicht (310; 402, 406) zwischen der ersten und zweiten Steuerelektrodenstruktur erstreckt. Techniques are discloses regarding methods of manufacturing an imager as well as an imager device.