Mirror assembly for projection exposure system, for microlithography, has body magnets and counter magnets that are attached with poles such that part of magnets is aligned opposite to alignment of another part of magnets

• Main Authors: BERTELE, ANDREAS, KLÖSCH, PETER
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 14.08.2014
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The assembly has a deformable reflective surface (2) formed at a mirror body (1). Two mirror body magnets (5) are arranged at the reflective surface of the mirror body. Counter magnets (6, 7) are arranged in the mirror body and adjusted such that attraction or repulsive forces are varied. The mirror body magnets and the counter magnets are attached with magnetic poles such that a part of the mirror body magnets and the counter magnets is aligned opposite to alignment of another part of the mirror body magnets or the counter magnets. An independent claim is also included for a method for compensating aberrations in a projection exposure system for microlithography. Die vorliegende Erfindung betrifft eine Spiegelanordnung für ein optisches System mit einer deformierbaren, elektromagnetische Strahlung reflektierenden Fläche, die an einem Spiegelkörper ausgebildet ist, wobei an dem Spiegelkörper an der der reflektierenden Fläche gegenüber liegenden Seite des Spiegelkörpers mindestens zwei Spiegelkörpermagnete angeordnet sind, und wobei jedem Spiegelkörpermagnet ein Gegenmagnet zugeordnet ist, der so einstellbar ist, dass die Anziehungs- oder Abstoßungskräfte variiert werden, und wobei die Spiegelkörpermagnete oder die Gegenmagnete mit ihren magnetischen Polen so ausgerichtet sind, dass im Wesentlichen die Hälfte der Spiegelköpermagnete oder der Gegenmagnete entgegengesetzt zur magnetischen Orientierung der anderen Hälfte der Spiegelkörpermagnete oder der Gegenmagnete ausgerichtet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin eine Spiegelanordnung für ein optisches System mit einer deformierbaren, elektromagnetische Strahlung reflektierenden Fläche, die an einem Spiegelkörper ausgebildet ist, wobei der Spiegelkörper an der der reflektierenden Fläche gegenüber liegenden Seite des Spiegelkörpers ein magnetisierbares Flächenelement umfasst, welchem mindestens ein, vorzugsweise mehrere Elektromagnete oder Permanentmagnete zugeordnet sind, die so einstellbar sind, dass die magnetische Kraft über das magnetisierbare Flächenelement auf den Spiegelkörper verstellbar ist. Außerdem betrifft die Erfindung eine Spiegelanordnung für ein optisches System mit einer Vielzahl von Spiegelelementen zur Reflexion elektromagnetischer Strahlung, die zur Einstellung unterschiedlicher Reflexionswinkel um mindestens eine Achse kippbar sind, wobei jedem Spiegelelement mindestens ein Paar von Magneten oder eine magnetisierbare Komponente mit einem Magneten zugeordnet ist und die anziehende oder abstoßende Wirkung zwischen den Magneten oder einem Magneten und der magnetisierbaren Komponente einstellbar ist, so dass das Spiegelelement um die mindestens eine Achse kippbar ist. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie sowie eine entsprechende Anlage mit erfindungsgemäßen Spiegelanordnungen.