Verfahren und Vorrichtung zur Schichtdickenkontrolle bei der Beschichtung von Substraten im Vakuum

• Main Authors: FABER, JÖRG, WENZEL, BERND-DIETER, POLLACK, GERD
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 09.10.2014
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Verfahren zur Schichtdickenkontrolle bei der Beschichtung von Substraten (2) im Vakuum, bei dem in einer Vakuumbeschichtungsanlage (1) ein Wachstum der Schicht auf einem Substrat (2) ermittelt wird, wobei ein Substrat (2) nach einem Beschichtungsprozess im Vakuum gewogen wird und mit dem Wägewert und einem Wägewert vorangegangener Messungen das Schichtwachstum ermittelt wird, und eine in einem Beschichtungsprozess erreichte Schichtdicke aus einer Differenz des Wägewertes vor und nach dem Beschichtungsprozess ermittelt wird, dadurch gekennzeichnet, dass ein in einer Transportrichtung (5) bewegtes Substrat (2) während seiner Bewegung gewogen wird.