GLAS MIT GERINGER WÄRMEAUSDEHNUNG FÜR EUVL-ANWENDUNGEN
Ein Glas mit geringer Wärmeausdehnung schließt ein Glasgrundmaterial mit einer Vorderseite, einer Rückseite und einer Dicke und ein Glasbeschichtungsmaterial, das wenigstens auf die Vorderseite des Glasgrundmaterials aufgebracht ist, ein. Das Glasgrundmaterial besteht im Wesentlichen aus 10 Gew.-% b...
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Format | Patent |
Language | German |
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24.03.2011
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Summary: | Ein Glas mit geringer Wärmeausdehnung schließt ein Glasgrundmaterial mit einer Vorderseite, einer Rückseite und einer Dicke und ein Glasbeschichtungsmaterial, das wenigstens auf die Vorderseite des Glasgrundmaterials aufgebracht ist, ein. Das Glasgrundmaterial besteht im Wesentlichen aus 10 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 90 Gew.-% Siliziumdioxid. Das Glasbeschichtungsmaterial besteht auch im Wesentlichen aus Titandioxid und Siliziumdioxid, die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasbeschichtungsmaterial ist jedoch kleiner als die Gesamtmenge an Titandioxid im Glasgrundmaterial. Ein Siliziumdioxid-Titandioxid-Glaselement, das für Lithographie-Anwendungen im extremen Ultraviolett geeignet ist, besteht aus 12 Gew.-% bis 20 Gew.-% Titandioxid und 80 Gew.-% bis 88 Gew.-% Siliziumdioxid und weist einen Wärmeausdehnungskoeffizienten von im Wesentlichen 0 L/L in einem Temperaturbereich von -20°C bis +100°C auf. |
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Bibliography: | Application Number: DE20101039779 |