Substrate holder for disc- or plate-shaped substrate, comprises a basic structure with at least one substrate recorder, which exhibits a recording medium for at least one substrate, with a lower guide element and an upper guide element

• Main Authors: HAGENSTROEM, HARALD, HUHN, MICHAEL, REHN, STANLEY, ZSCHIESCHANG, ERWIN, PROEHL, HOLGER, WAYDBRINK, HUBERTUS VON DER
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 03.03.2011
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Substrate holder for disc- or plate-shaped substrate (8), comprises a basic structure (1) with at least one substrate recorder, which exhibits a recording medium for at least one substrate, with a lower guide element (4) and an upper guide element (5). A screen element is arranged on the basic structure so that the guide elements are fully covered. An independent claim is also included for a vacuum treatment device with at least one treatment device and a vertical substrate transport device for disc-or plate-shaped substrate, comprising a substrate holder, a supporting device (7) for supporting the lower guide element of the substrate holder and a guiding device for guiding the upper guide element of the substrate holder, where the screen element of the substrate holder at least partly covers the supporting device or the control device from the treatment device. Es wird ein Substrathalter für scheiben- oder plattenförmige Substrate vorgeschlagen, der eine Grundstruktur mit mindestens einer Substrataufnahme umfasst, die Aufnahmemittel für mindestens ein Substrat aufweist, und der weiterhin ein unteres Führungselement und ein oberes Führungselement umfasst, wobei an der Grundstruktur mindestens ein Blendenelement so angeordnet ist, dass es ein Führungselement vollständig bedeckt. Bei einer Vakuumbehandlungsanlage mit mindestens einer Behandlungseinrichtung und mit einer vertikalen Substrattransporteinrichtung für scheiben- oder plattenförmige Substrate, die einen Substrathalter der oben beschriebenen Art, eine Stützeinrichtung zur Stützung des unteren Führungselements des Substrathalters und eine Führungseinrichtung zur Führung des oberen Führungselements des Substrathalters, ist das Blendenelement des Substrathalters so angeordnet, dass es die Stützeinrichtung oder die Führungseinrichtung von der Behandlungseinrichtung aus gesehen zumindest teilweise bedeckt.