Runner disk for holding conductive disks during reciprocal polish, has recesses for supporting conductive disks and depressing openings for polishing agent supplying polish

• Main Authors: ROETTGER, KLAUS, HEIER, GERHARD
• Format: Patent
• Language: English; German
• Published: 08.07.2010
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS; GRINDING; MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; PERFORMING OPERATIONS; POLISHING; SEMICONDUCTOR DEVICES; TRANSPORTING

The runner disk has recesses (1) for supporting conductive disks and depressing openings (2) for polishing agent supplying polish. The part of the depressing openings is formed by holes (3,3a,3b,3c,3d), which have diameter from 2 to 8 millimeter and is arranged at a distance of 1 to 10 millimeter around the recesses. The holes are arranged on two middle sections and an inner or outer section of a circular path. An independent claim is also included for a method for reciprocal polish of conductive disk. Gegenstand der Erfindung ist eine Läuferscheibe zum Halten von Halbleiterscheiben während einer beidseitigen Politur der Halbleiterscheiben, die Aussparungen zur Aufnahme der Halbleiterscheiben und Durchtrittsöffnungen für ein während der Politur zugeführtes Poliermittel umfasst. Ein Teil der Durchtrittsöffnungen wird von Löchern gebildet, die einen Durchmesser von 2 bis 8 mm haben und in einem Abstand von 1 bis 10 mm um die Aussparungen angeordnet sind, wobei die Löcher auf zwei mittleren Abschnitten und einem inneren oder einem äußeren Abschnitt einer Kreisbahn angeordnet sind.