Vorrichtung zur Dämpfung von Schwingungen in Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithographie
Die Erfindung betrifft eine wechselbare Baugruppe (1) für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310), die mindestens ein Dämpfungselement (2) enthält. Ferner betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) sowie eine Messbaugr...
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Format | Patent |
Language | German |
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25.03.2010
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Summary: | Die Erfindung betrifft eine wechselbare Baugruppe (1) für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310), die mindestens ein Dämpfungselement (2) enthält. Ferner betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) sowie eine Messbaugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit mindestenns einem Sensor zur Erfassung von Parametern und von Schwingungen der Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Messbaugruppe in der Weise ausgebildet ist, dass sie in eine für ein optisches Element vorgesehene Austauschöffnung der Projektionsbelichtungsanlage (310) eingeführt werden kann. |
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Bibliography: | Application Number: DE20081047562 |