Vorrichtung zur Dämpfung von Schwingungen in Projektionsbelichtungsanlagen für die Halbleiterlithographie

Die Erfindung betrifft eine wechselbare Baugruppe (1) für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310), die mindestens ein Dämpfungselement (2) enthält. Ferner betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) sowie eine Messbaugr...

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Main Authors KLOESCH, PETER, RINGEL, MICHAEL, WEIS, MARKUS
Format Patent
LanguageGerman
Published 25.03.2010
Subjects
APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
CINEMATOGRAPHY
ELECTROGRAPHY
HOLOGRAPHY
MATERIALS THEREFOR
ORIGINALS THEREFOR
PHOTOGRAPHY
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES
PHYSICS
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Summary:Die Erfindung betrifft eine wechselbare Baugruppe (1) für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310), die mindestens ein Dämpfungselement (2) enthält. Ferner betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie (310) sowie eine Messbaugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit mindestenns einem Sensor zur Erfassung von Parametern und von Schwingungen der Projektionsbelichtungsanlage, wobei die Messbaugruppe in der Weise ausgebildet ist, dass sie in eine für ein optisches Element vorgesehene Austauschöffnung der Projektionsbelichtungsanlage (310) eingeführt werden kann.
Bibliography:Application Number: DE20081047562