Verfahren zum Herstellen einer nanoporösen Schicht

Verfahren zur Herstellung einer nanoporösen Schicht mit den Schritten:Aufbringen und lithografisches Strukturieren einer Plattierbasis (2) mit Haftverstärkung auf einen Träger (1);Abscheiden einer Schicht (3) aus Gold und Silber auf die auf dem Träger (1) aufgebrachte Plattierbasis (2) auf galvanisc...

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Main Authors Wolf, Jürgen, Oppermann, Hermann, Dr, Dietrich, Lothar, Engelmann, Gunter, Dr
Format Patent
LanguageGerman
Published 04.04.2019
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Summary:Verfahren zur Herstellung einer nanoporösen Schicht mit den Schritten:Aufbringen und lithografisches Strukturieren einer Plattierbasis (2) mit Haftverstärkung auf einen Träger (1);Abscheiden einer Schicht (3) aus Gold und Silber auf die auf dem Träger (1) aufgebrachte Plattierbasis (2) auf galvanischem bzw. elektrochemischen Wege, wobei die Zusammensetzung im Bereich von 20% bis 40% Gold und 80% bis 60% Silber liegt,selektives Entfernen des Silbers zur Erzielung einer nanoporösen Goldschicht (4). A method for producing a nanoporous layer comprises applying a plating base with adhesion strengthening onto a substrate, depositing a layer made of gold and silver onto the substrate, the composition being in the range of 20% to 40% gold and 80% to 60% silver, and selectively removing the silver in order to produce a nanoporous gold layer.
Bibliography:Application Number: DE20071055019