Flat layer formation from diamond material on surface of workpiece, involves utilizing well-known diamond coating technology, particularly chemical vapor deposition coating process

Flat layer formation involves utilizing well-known diamond coating technology, particularly a chemical vapor deposition (CVD) coating process. A workpiece (2) before coating is embedded in a bed (3) made of granular material with a surface. The surface is coated in such a manner that a free surface...

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Main Authors KIRCHHOF, MARTIN, HOLZAPFEL, THOMAS, SCHRUEFER, ANDREAS
Format Patent
LanguageEnglish
German
Published 18.12.2008
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Summary:Flat layer formation involves utilizing well-known diamond coating technology, particularly a chemical vapor deposition (CVD) coating process. A workpiece (2) before coating is embedded in a bed (3) made of granular material with a surface. The surface is coated in such a manner that a free surface formed by the bed aligns with the level of the workpiece surface, which is to be coated. The diamond coating is carried out by integrating the workpiece surface and a surface area of the bed adjacent to the workpiece surface. Ein Verfahren zur Ausbildung einer planen Schicht aus einem Diamantmaterial auf einer Oberfläche eines Werkstücks (2) unter Anwendung bekannter Diamantbeschichtungstechnologien, insbesondere dem CVD-Beschichtungsverfahren, zeichnet sich dadurch aus, dass man vor dem Beschichten das Werkstück mit nach oben weisender zu beschichtender Oberfläche in einem Bett (3) aus körnigem Material so einbettet, dass eine durch das Bett gebildete freie Oberfläche mit der Ebene der zu beschichtenden Werkstückoberfläche im Wesentlichen fluchtet und dass man danach die Diamantbeschichtung unter Einbeziehung der zu beschichtenden Werkstückoberfläche und wenigstens eines der Werkstückoberfläche benachbarten Oberflächenbereiches des Bettes vornimmt.
Bibliography:Application Number: DE20071027474