Strahldosierungsberechnungsverfahren und Schreibverfahren und Aufzeichnungsträger und Schreibgerät

• Main Authors: Emi, Keiko, Yashima, Jun, Suzuki, Junichi, Iijima, Tomohiro, Abe, Takayuki
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 30.11.2017
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CINEMATOGRAPHY; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES; MATERIALS THEREFOR; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; NANOTECHNOLOGY; ORIGINALS THEREFOR; PERFORMING OPERATIONS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; TRANSPORTING

Strahldosierungsberechnungsverfahren, umfassend: Spezifizieren von Matrizen aus Reihen und Spalten von Regionen wie von einem Oberflächenbereich eines Zielobjektes aufgeteilt, um erste, zweite und dritte Regionen einzuschließen, wobei die dritten Regionen eine geringere Größe haben als die ersten und zweiten Regionen; die ersten und zweiten Regionen gleiche oder unterschiedliche Größe haben, die ersten Regionen Einheitsregionen zur Korrektur von Schleierbildungseffekten sind, die zweiten Regionen Einheitsregionen zur Korrektur von Musterlinienbreitenabweichungen, die durch Loading-Effekte bedingt auftreten, sind, und die dritten Regionen Einheitsregionen zur Korrektur eines Proximity-Effekts sind; Bestimmen (74) erster korrigierter Dosierungen (Dk) eines geladenen Partikelstrahls zum Korrigieren von Schleierbildungseffekten in den ersten Regionen; Bestimmen (78) korrigierter Größenwerte (CD) für das Korrigieren von durch Loading-Effekte bedingt auftretenden Musterlinienbreitenabweichungen in den zweiten Regionen; Verwenden (80) der korrigierten Größenwerte (CD) in den zweiten Regionen zum Erstellen einer Karte (BD MAP) von Basisdosierungen des Strahls in jeweiligen der zweiten Regionen; Verwenden (82) der korrigierten Größenwerte (CD) zum Vorbereiten einer Karte (η MAP) der Proximity-Effekt-Korrekturkoeffizienten in jeweiligen der zweiten Regionen; Verwenden (84) der Karten (BD MAP, η MAP) zum Bestimmen zweiter korrigierter Dosierungen des Strahls zur Korrektur der Proximity-Effekte in den dritten Regionen; und Verwenden (86) der ersten und zweiten korrigierten Dosierungen zum Bestimmen einer tatsächlichen Strahldosierung (D) an jeder Position auf der Oberfläche des Objektes. The method involves determining corrected parameter values for corrections of pattern line width deviations in a region. The values are utilized to create an illustration of basic dosages of particle beams of an electron beam (58) and to prepare an illustration of proximity effect correction coefficients in two regions. The illustrations are utilized to determine two corrected dosages of the beams to correct the proximity effects in a third region. The two dosages are utilized to determine an actual electron beam dosage in respective positions on a surface of a work piece (38). Independent claims are also included for the following: (1) a recording method for recording a pattern using loaded particle beams (2) a recording medium in which a treatment procedure is stored in a computer readable and executable form (3) a recording device for recording a pattern by using loaded particle beams.