Verfahren zur Herstellung einer selbsttragenden elektronenoptisch durchstrahlbaren Struktur und nach dem Verfahren hergestellte Struktur

Die Erfindung umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer selbsttragenden elektronenoptisch durchstrahlbaren Struktur (6). Diese Struktur (6) ist gebildet aus Stegen (6.1) mit mehreren Lagen und aus Ausnehmungen (6.2), die zwischen den Stegen (6.1) liegen. Die Herstellung der Strukturen wird durch f...

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Main Authors SPECKBACHER, PETER, BAYER, ERICH, FLATSCHER, GEORG, ALLGAEUER, MICHAEL, ULLRICH, MARTIN, SAILER, ANTON
Format Patent
LanguageGerman
Published 10.04.2003
Edition7
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Summary:Die Erfindung umfasst ein Verfahren zur Herstellung einer selbsttragenden elektronenoptisch durchstrahlbaren Struktur (6). Diese Struktur (6) ist gebildet aus Stegen (6.1) mit mehreren Lagen und aus Ausnehmungen (6.2), die zwischen den Stegen (6.1) liegen. Die Herstellung der Strukturen wird durch folgende Verfahrensschritte vorgenommen: DOLLAR A - Auf eine erste Schicht (1) wird eine zweite Schicht aufgetragen, DOLLAR A - ein Muster wird durch einen Belichtungs- oder Bestrahlungsprozess vorgegeben und aus der zweiten Schicht herausgeätzt, so dass Teilbereiche der ersten Schicht (1) freigelegt sind, DOLLAR A - die Lagen der Stege (6.1) werden auf die freigelegten Teilbereiche der ersten Schicht (1) galvanisch aufgebracht, und DOLLAR A - die Struktur (6) wird von der ersten Schicht (1) abgezogen. DOLLAR A Ebenso umfasst die Erfindung nach diesem Verfahren hergestellte selbsttragende Strukturen (6), die sich durch ihre gleichmäßigen Kanten und ihrem guten Absorptionsverhalten auszeichnen. A method for producing a self-supporting electron-optical transparent structure that includes multi-layer strips and recesses located between the multi-layer strips. The method includes applying a first layer to a second layer, presetting a pattern by exposing or irradiating the first layer and etching the pattern out of the first layer so that partial areas of the second layer are uncovered. The method further includes galvanically applying layers to the uncovered partial areas of the second layer so that multi-layer strips are formed thereon and an electron-optical transparent structure is formed and removing the electron-optical transparent structure off the second layer.
Bibliography:Application Number: DE20011037493