Verfahren zur Messung von Kennwerten eines Schichtsystems während des Schichtaufbaus, insbesondere der Temperatur, insbesondere bei einem Halbleitersystem während der Epitaxie
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Main Authors | , |
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Format | Patent |
Language | German |
Published |
19.12.2002
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Edition | 7 |
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Bibliography: | Application Number: DE2000161168 |
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