Merkmalbasierende Feststellung von Fehlern

• Main Authors: RHOADS, ADAM, TALBOT, CHRISTOPHER G, GALLARDA JUN., HARRY S, LO, CHIWOEI WAYNE
• Format: Patent
• Language: German
• Published: 31.01.2013
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CALCULATING; COMPUTING; COUNTING; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; HANDLING RECORD CARRIERS; IMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES; PHYSICS; PRESENTATION OF DATA; RECOGNITION OF DATA; RECORD CARRIERS; SEMICONDUCTOR DEVICES; TESTING

Es werden Verfahren und Einrichtungen zur Verfügung gestellt, um ein gemustertes Substrat zu untersuchen, mit: Erzeugung eines Bezugsbildes und eines Testbildes, Herausziehen von Merkmalen aus dem Bezugsbild und Herausziehen von Merkmalen aus dem Testbild, Anpassung von Merkmalen des Bezugsbildes und von Merkmalen des Testbildes; und Vergleich von Merkmalen des Bezugsbildes und des Testbildes zum Identifizieren von Fehlern. Ausführungsformen umfassen Einrichtungen zur Untersuchung gemusterter Substrate, computerlesbare Medien, die Befehle enthalten, um ein System zu steuern, das einen Prozessor aufweist, zur Untersuchung gemusterter Substrate, und Computerprogrammerzeugnisse, die ein computerlesbares Medium aufweisen, in welchem ein computerlesbarer Programmcode vorhanden ist, um ein System zum Untersuchen gemusterter Substrate zu steuern. Die Bilder können Elektronenstrahl-Spannungskontrastbilder sein. Methods and apparatus are provided for inspecting a patterned substrate, comprising: preparing a reference image and a test image, extracting features from the reference image and extracting features from the test image, matching features of the reference image and features of the test image; and comparing features of the reference image and of the test image to identify defects. Embodiments include apparatus for inspecting patterned substrates, computer-readable media containing instructions for controlling a system having a processor for inspecting patterned substrates, and computer program products comprising a computer usable media having computer-readable program code embodied therein for controlling a system for inspecting patterned substrates. The images can be electron-beam voltage-contrast images.