A method of material removal
Předmětem vynálezu je způsob rovnoměrného odstranění materiálu z povrchu vzorku odprašováním pomocí skenování povrchu fokusovaným iontovým svazkem a současné pozorování tohoto vzorku během odprašování. Rovnoměrného odprašování různých materiálů je dosaženo odprašováním pod vysokým úhlem z více směrů...
Saved in:
Main Authors | , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | Czech English |
Published |
19.06.2024
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | Předmětem vynálezu je způsob rovnoměrného odstranění materiálu z povrchu vzorku odprašováním pomocí skenování povrchu fokusovaným iontovým svazkem a současné pozorování tohoto vzorku během odprašování. Rovnoměrného odprašování různých materiálů je dosaženo odprašováním pod vysokým úhlem z více směrů, přičemž tyto směry jsou vzájemně otočeny o nenulový úhel.
The subject of the invention applies to a method of even removal of material from the sample surface by way of dedusting using scanning the surface with focused ion beam while at the same time observing the sample during dedusting. The even dedusting of different materials is achieved by dedusting at a high angle from multiple directions, whereas the directions are rotated by a non-zero angle to each other. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: CZ20170000424 |