Sample display method
Předmětem vynálezu je způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího nanejvýš jednu aktivní objektivovou čočku (7) umístěnou nad prvním rastrovacím prvkem (8) a druhým rastrovacím prvkem (9). Předmět vynálezu spočívá ve vychylování svazku primárních elektronů zaost...
Saved in:
Main Author | |
---|---|
Format | Patent |
Language | Czech English |
Published |
03.11.2021
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | Předmětem vynálezu je způsob zobrazení vzorku pomocí rastrovacího elektronového mikroskopu obsahujícího nanejvýš jednu aktivní objektivovou čočku (7) umístěnou nad prvním rastrovacím prvkem (8) a druhým rastrovacím prvkem (9). Předmět vynálezu spočívá ve vychylování svazku primárních elektronů zaostřeného objektivovou čočkou (7) takovým způsobem, že od druhého rastrovacího prvku (9) se svazek primárních elektronů šíří směrem ke vzorku (10) přibližně paralelně s optickou osou (13) REM, kdy vzorek (10) je zároveň vůči optické ose (13) REM nakloněn o úhel jiný než 90° nebo se jedná o vzorek (10) s výraznou topografií.
A sample display method by means of a scanning electron microscope comprises at most one active objective lens located above a first scanning element and a second scanning element. A primary electron beam is deflected so as to be focused by an objective lens so that the beam propagates from the second scanning element towards a sample approximately parallel to the SEM optical axis, wherein the sample is also tilted relative to the SEM optical axis by an angle other than 90°, or it is a sample with distinct topography. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: CZ20200000232 |